近日，國家科(ke)技重(zhong)大專項“極大規模(mo)集成電(dian)路制造裝備及成套工(gong)藝”部署的“90-65nm等離(li)子(zi)體增強化學氣相(xiang)沉積（PECVD）設備研發與應用(yong)”項目順利完成，實現了12英寸PECVD設備的國產化，填(tian)補了國內空白，提(ti)升了我國集成電(dian)路產業整體競爭力(li)。
PECVD設備(bei)是集成電路制(zhi)(zhi)造的(de)(de)(de)(de)(de)核(he)心(xin)設備(bei)之一，技術(shu)(shu)難度大，單(dan)臺(tai)(tai)價值高。一直以來，12英寸(cun)PECVD技術(shu)(shu)被(bei)歐(ou)美以及(ji)(ji)日本(ben)等國(guo)家(jia)所壟斷。在國(guo)家(jia)科技重大專項(xiang)的(de)(de)(de)(de)(de)部署及(ji)(ji)支持下，由(you)企業與科研院所聯合(he)研發(fa)，攻(gong)克了(le)(le)(le)12英寸(cun)PECVD設備(bei)的(de)(de)(de)(de)(de)架構(gou)平臺(tai)(tai)設計、薄膜工(gong)藝開發(fa)、仿真理論計算、設備(bei)可(ke)(ke)靠性及(ji)(ji)工(gong)藝可(ke)(ke)重復性、薄膜均(jun)勻性控制(zhi)(zhi)、射(she)頻技術(shu)(shu)等關鍵技術(shu)(shu)問題，申(shen)請了(le)(le)(le)專利307項(xiang)，建(jian)立(li)了(le)(le)(le)技術(shu)(shu)標準10項(xiang)，12英寸(cun)等離子體增(zeng)強(qiang)化學氣相沉積(ji)（PECVD）設備(bei)(PF-300)榮獲國(guo)家(jia)重點新產(chan)(chan)品。產(chan)(chan)品通過了(le)(le)(le)中芯國(guo)際(ji)(ji)12英寸(cun)晶圓制(zhi)(zhi)造及(ji)(ji)蘇州晶方、華進半導體、華天科技的(de)(de)(de)(de)(de)12英寸(cun)三維封(feng)裝的(de)(de)(de)(de)(de)生產(chan)(chan)驗證、采購認(ren)證與使用(yong)，各項(xiang)指標達到(dao)國(guo)際(ji)(ji)水平，成本(ben)為國(guo)際(ji)(ji)設備(bei)的(de)(de)(de)(de)(de)70%。目(mu)前(qian)項(xiang)目(mu)實(shi)現了(le)(le)(le)7臺(tai)(tai)12英寸(cun)PECVD的(de)(de)(de)(de)(de)銷售，另有5臺(tai)(tai)設備(bei)已經交(jiao)付用(yong)戶，產(chan)(chan)品及(ji)(ji)服務得到(dao)了(le)(le)(le)用(yong)戶的(de)(de)(de)(de)(de)一致認(ren)可(ke)(ke)。

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